TDF系列X射線(xiàn)晶體分析儀

TDF系列X射線(xiàn)晶體分析儀

概述

TDF系列X射線(xiàn)晶體分析儀是研究物質(zhì)內部微觀(guān)結構的一種大型分析儀器，主要應用于單晶定向、檢驗缺陷、測定點(diǎn)陣參

數、測定殘余應力、研究板材、棒材的結構、研究未知物質(zhì)的結構和單晶位錯等。

特點(diǎn)

TDF系列X射線(xiàn)晶體分析儀采用立式管套，四個(gè)窗口可以同時(shí)使用。

TDF系列X射線(xiàn)晶體分析儀采用進(jìn)口PLC控制技術(shù)，控制精度高、抗干擾性好，可實(shí)現本系統可靠地工作，PLC控制高壓的

開(kāi)關(guān)、升降、具有自動(dòng)訓練X光管的功能，有效的延長(cháng)X射線(xiàn)管及儀器的使用壽命。

高壓發(fā)生器（采用進(jìn)口PLC控制）

管電壓：10-60KV；

管電流：2-60mA；

管電壓、管電流穩定度≤±0.005%；

額定輸出功率：3KW。

高壓電纜   

介電電壓≥100KV；

長(cháng)度：2M。

X射線(xiàn)管

額定功率：2.4KW；

焦點(diǎn)尺寸（mm²）：點(diǎn)焦點(diǎn)（1×1）線(xiàn)焦點(diǎn)（1×10）；

靶材：Cu、Co、Fe、Cr、Mo、W等。
     

X射線(xiàn)照相機

勞厄相機（大小粉末）

平板相機

三維樣品臺

美國Multiwire相機

X射線(xiàn)防護罩

采用高密度、高透光性道德鉛玻璃作為X射線(xiàn)防護罩，外射線(xiàn)量不大于0.1µ Sv/h